活性氧生成铜(II)氧化物纳米粒子由DNA损伤检测和电子顺磁共振光谱学。

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Angele-Martinez C,阮KV,埃米尔FS,安加约,Brumaghim杰

活性氧生成铜(II)氧化物纳米粒子由DNA损伤检测和电子顺磁共振光谱学。

纳米毒理学。2017年3月,11 (2):278 - 288。doi: 10.1080 / 17435390.2017.1293750。

PubMed ID

28248593 (在PubMed

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文摘

铜(II)氧化物纳米颗粒((NP)措)有许多工业应用,但细胞毒性很高,因为他们产生活性氧(ROS)。还不知道有害活性氧生成主要从纳米颗粒铜浸出,还是纳米颗粒表面起着重要的作用。为了解决这个问题,我们从上层清液含有溶解的铜纳米颗粒分离,并测量他们的能力与添加过氧化氢质粒DNA损伤,抗坏血酸盐,或两者兼而有之。虽然DNA损伤的上层清液(用电泳分析)可以解释完全由溶解的铜离子,破坏纳米粒子的抗坏血酸盐的存在是一个数量级高于可以解释为溶解铜和必须,因此,主要依赖于纳米粒子表面。DNA损伤是时间,在较短的孵化时间导致更高的EC50值。氢氧自由基((*)哦)是主要的ROS生成的(NP)措/过氧化氢由EPR测量;(NP)措/过氧化氢/抗坏血酸盐条件生成ascorbyl、羟基和过氧化物自由基。因此,通过几种机制(NP)措产生活性氧,可能包括Fenton-like和Haber-Weiss从表面或溶解的铜离子的反应。相同的激进的物种观察(NP)措悬浮液替换包含淋溶铜的上层清液,洗(NP)措,或溶解铜的解决方案。总的来说,(NP)措生成更多的活性氧和DNA损伤的抗坏血酸盐比可以解释仅从溶解铜、和(NP)措表面必须发挥大作用。

DrugBank数据引用了这篇文章

药物

氧化铜